[发明专利]直列式有机电致发光制造装置有效
| 申请号： | 200510054767.3 | 申请日： | 2005-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN1676659A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | 神川进;森崎裕彦;和田宏三;吉武隆;合田圣彦;平井悦郎;小林敏郎;加藤光雄;平野龙也 | 申请（专利权）人： | 三菱日立制铁机械株式会社;三菱重工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/56 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 刘建 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种直列式有机电致发光制造装置，使用与掩膜一体成形的支架支撑基板，并在基板上设置冷却板，以此抑制基板的温度上升而进行连续输送。另外，在装置内部设置差动排气部(D1～D4)，在不同真空度的处理室之间可以不停地连续输送基板。由此，能够提高成膜质量，并且能够提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 直列式 有机 电致发光 制造 装置 | ||
【主权项】：
1.一种直列式有机电致发光制造装置，其具有：可独立控制气氛和真空度的多个处理室；和向所述多个处理室连续输送基板的输送装置，并经过所述多个处理室中的规定的处理，在所述基板上形成有机电致发光元件，其特征在于：具有支撑装置，所述支撑装置具备形成有在所述基板上成膜的薄膜的图形的掩膜，并支撑所述基板而防止其弯曲，所述输送装置利用所述支撑装置向所述多个处理室连续输送所述基板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱日立制铁机械株式会社;三菱重工业株式会社，未经三菱日立制铁机械株式会社;三菱重工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510054767.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
