[发明专利]投影机及曝光调整方法有效

专利信息
申请号: 200510055478.5 申请日: 2005-03-18
公开(公告)号: CN1670615A 公开(公告)日: 2005-09-21
发明(设计)人: 宫坂德章 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G03B21/00 分类号: G03B21/00;G03B21/14;G03B17/48;H04N5/225
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 陈海红;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种曝光调整方法CPU120对变焦透镜位置检测部122所传送的变焦量进行取得,并根据所取得的变焦量来计算与该变焦量相对应的曝光目标值。CPU120将根据变焦量Z来算出的曝光目标值R设定在拍摄控制部105中,并对于拍摄控制部105发出进行拍摄的指示。因此,即使变焦透镜的变焦位置变化,也能够将拍摄图像中白色部分的灰度等级值的平均值基本保持为预期灰度等级值。
搜索关键词: 投影机 曝光 调整 方法
【主权项】:
1.一种将投影光投影到投影对象物上,使图像显示的投影机,其特征为,具备:变焦透镜,可以使上述投影光所投影的投影光范围的大小变化;变焦透镜位置检测部,对上述变焦透镜的变焦位置进行检测;控制部;拍摄部,对上述投影对象物进行拍摄;以及拍摄控制部,由通过上述拍摄部所拍摄的拍摄图像计算曝光计算值,进行上述拍摄部中的曝光调整,以使所算出的上述曝光计算值成为与通过上述控制部所设定的曝光目标值基本相等,上述控制部,取得通过上述变焦透镜位置检测部所检测的上述变焦位置,根据所取得的上述变焦位置,使应设定在上述拍摄控制部中的上述曝光目标值变化。
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