[发明专利]涂布式电容的制造方法无效
申请号: | 200510055547.2 | 申请日: | 2005-03-16 |
公开(公告)号: | CN1835135A | 公开(公告)日: | 2006-09-20 |
发明(设计)人: | 杨合卿 | 申请(专利权)人: | 杨合卿 |
主分类号: | H01G4/00 | 分类号: | H01G4/00;H01G4/12;H01G4/30;H01G13/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘领弟 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种涂布式电容的制造方法。为提供一种的电气元件制造方法,提出本发明,它包含如下步骤:涂布导电树脂,将导电树脂涂布于PCB的两焊点之间;固化,将导电树脂予以固化;激光切割,于固化后的导电树脂表面以激光切割出回转折状沟槽;涂布介电材料并固化,于切割后的导电树脂涂布介电材料再予以固化;测试容量,修正及二次测试;涂布绝缘层,于介电材料层涂布绝缘保护层。 | ||
搜索关键词: | 涂布式 电容 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种涂布式电容的制造方法,其特征在它包含如下步骤:A、涂布导电树脂,将导电树脂涂布于PCB的两焊点之间;B、固化,将导电树脂予以固化;C、激光切割,于固化后的导电树脂表面以激光切割出回转折状沟槽;D、涂布介电材料并固化,于切割后的导电树脂涂布介电材料再予以固化;E、测试容量,修正及二次测试;F、涂布绝缘层,于介电材料层涂布绝缘保护层。
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