[发明专利]增亮整合型偏光膜/光学膜结构及制造方法及显示单元无效
| 申请号： | 200510055780.0 | 申请日： | 2005-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN1837866A | 公开（公告）日： | 2006-09-27 |
| 发明（设计）人： | 郑岳世;陈育翔;刘韦志;王宗雄;吴昱勋;简维谊 | 申请（专利权）人： | 台湾薄膜电晶体液晶显示器产业协会;中华映管股份有限公司;友达光电股份有限公司;广辉电子股份有限公司;瀚宇彩晶股份有限公司;奇美电子股份有限公司;财团法人工业技术研究院;统宝光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335;G09F9/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 马娅佳 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明为一种增亮整合型偏光膜/光学膜结构及制造方法，用以解决现有偏光膜与增亮膜组合后，整体光学效应匹配不良，造成整体穿透度下降的缺点。本发明增亮整合型偏光膜/光学膜包含吸收型与反射型两种偏光膜层，其中反射型偏光膜层可产生反射光源效应，且利用非线性光学设计将不同染料的增亮整合型偏光膜/光学膜涂布在至少一基板上，而产生一同时兼具反射增亮效应、高偏光度、高透光度、广视角与高对比等功能特性的增亮整合型偏光膜/光学膜结构及制程方法。 | ||
| 搜索关键词： | 整合 偏光 光学 膜结构 制造 方法 显示 单元 | ||
【主权项】：
1、一种增亮整合型偏光膜/光学膜结构的制造方法，其特征在于，包括下列步骤：提供至少一基材；及至少涂布一层不同材料的增亮整合型偏光膜/光学膜于该些基材上，其中该些不同材料的增亮整合型偏光膜/光学膜包含两部份，第一部份为反射型偏光增亮膜且第二部份为吸收型偏光膜层。
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