[发明专利]磁记录介质和磁存储装置无效
| 申请号： | 200510055919.1 | 申请日： | 2005-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN1773609A | 公开（公告）日： | 2006-05-17 |
| 发明（设计）人： | 乡家隆志 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 磁记录介质和磁存储装置。一种磁记录介质，其包括基底、设置在基底上的AlFe基合金层、设置在AlFe基合金层上的底基层、以及设置在底基层上的记录层，并且当在该记录层上记录信息时，沿预定的记录方向对该记录层进行磁化。该基底具有纹理化表面，该纹理化表面具有大致沿该记录方向形成的多个沟槽。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 存储 装置 | ||
【主权项】：
1、一种磁记录介质，该磁记录介质包括基底，其特征在于：AlFe基合金层，设置在所述基底上；底基层，设置在所述AlFe基合金层上；以及记录层，设置在所述底基层上，并且当在该记录层上记录信息时，沿预定的记录方向对该记录层进行磁化，其中所述基底具有纹理化表面，该纹理化表面具有大致沿所述记录方向形成的多个沟槽。
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