[发明专利]掩模基板的平整度模拟系统

摘要

提供一种掩模基板的平整度模拟系统，可以解决在将掩模基板吸附到晶片曝光装置的掩模台后掩模基板的平整度恶化而引起晶片曝光装置制品成品率低的问题。该掩模基板的平整度模拟系统包括：取得有关掩模基板的主面的平整性的第一信息的测定基板的平整性的单元；以及取得有关由根据上述第一信息和与曝光装置的掩模吸盘结构有关的信息进行的把上述掩模基板设置于上述曝光装置时的模拟得到的有关上述主面的平整度的第二信息的单元。

主权项

1、一种掩模基板的平整度模拟系统，其特征在于包括：取得有关掩模基板的主面的平整性的第一信息的、测定基板的平整性的单元；以及取得由根据上述第一信息和与曝光装置的掩模吸盘结构有关的信息进行的把上述掩模基板设置于上述曝光装置时的模拟得到的、有关上述主面的平整度的第二信息的单元。