[发明专利]用于前段工艺制造的原地干洗腔有效

专利信息
申请号: 200510056532.8 申请日: 2005-02-25
公开(公告)号: CN1681079A 公开(公告)日: 2005-10-12
发明(设计)人: C-T·高;J-P·周;C·赖;S·阿姆托艾;J·休斯顿;S·郑;M·张;X·袁;Y·张;X·陆;W·W·王;S-E·潘 申请(专利权)人: 应用材料有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/205;C23C16/44
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 赵蓉民
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了一种用于从衬底表面上去除天然氧化物的方法和装置。一方面,该腔包括一个腔体和一个至少部分布置在腔体内并适合在其上支撑衬底的支撑装置。该支撑装置包括至少部分在其中形成并能冷却衬底的一个或多个流体通道。该腔进一步包括布置在腔体上表面的盖装置。该盖装置包括在其间限定了等离子空腔的第一电极和第二电极,其中第二电极适合连接地加热衬底。
搜索关键词: 用于 前段 工艺 制造 原地 干洗
【主权项】:
1.一种用于从衬底表面上去除天然氧化物的处理腔,其包括:一个腔体;一个至少部分布置在该腔体内部并适合在其上支撑一个衬底的支撑装置,其中该支撑装置包括至少部分在其中形成并能冷却该衬底的一个或多个流体通道;和一个布置在该腔体上表面的盖装置,该盖装置包括在其间限定一个等离子空腔的第一电极和第二电极,其中该第二电极被加热并适合对流加热该衬底。
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