[发明专利]用于磁性/非磁性/磁性多层薄膜的核心复合膜及其用途无效
申请号: | 200510056941.8 | 申请日: | 2005-03-24 |
公开(公告)号: | CN1836896A | 公开(公告)日: | 2006-09-27 |
发明(设计)人: | 王天兴;曾中明;杜关祥;韩秀峰;洪桢敏;石高全 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | B32B7/04 | 分类号: | B32B7/04 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 高存秀 |
地址: | 100080北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于磁性/非磁性/磁性多层薄膜的核心复合膜,包括自由磁性层、隔离层和被钉扎磁性层。该核心复合膜可以是仅隔离层为LB膜层;该隔离层为具有绝缘的、导电的、或有半导体性质的材料组成的有机LB膜。该核心复合膜也可以是所述的自由磁性层、隔离层和被钉扎磁性层均为LB膜层;其中被钉扎磁性层和自由磁性层为有磁性的材料组成的有机膜。该核心复合膜可以应用于磁电阻自旋阀传感器上,其可构成磁电阻自旋阀传感器的磁感应单元;也可用于磁电阻随机存取存储器上做为记忆单元。该核心复合膜可在大面积范围内保持均匀性和一致性,其工艺简单、成本低廉;且利用LB有机膜替代传统的隔离层和磁性层,使得器件更轻、更薄、更易加工和集成化。 | ||
搜索关键词: | 用于 磁性 多层 薄膜 核心 复合 及其 用途 | ||
【主权项】:
1、一种用于磁性/非磁性/磁性多层薄膜的核心复合膜,其包括自由磁性层、隔离层和被钉扎磁性层,所述的隔离层为LB膜层。
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