[发明专利]制造膜或压电膜的方法有效

专利信息
申请号: 200510058845.7 申请日: 2005-03-30
公开(公告)号: CN1676668A 公开(公告)日: 2005-10-05
发明(设计)人: 安井基博;明渡纯;马场创 申请(专利权)人: 兄弟工业株式会社;独立行政法人产业技术综合研究所
主分类号: C23C24/04 分类号: C23C24/04;H01L41/22
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种简单方法,来制造如压电膜的膜,其中可以改善基板上的膜的粘附性。包含粒子的气悬体被喷射到基板上以使粒子粘着在其上,其中粒子附着的基板中的粘着表面的维氏硬度Hv(b)与粒子的维氏硬度Hv(p)之间的比率在0.39≤Hv(p)/Hv(b)≤3.08的范围内。粒子与基板之间的粘性因而被改善,以可靠地形成膜。本发明可满意地应用于压电膜的形成。
搜索关键词: 制造 压电 方法
【主权项】:
1、一种通过将含有粒子的气悬体喷射到基板上以使粒子粘着其上的在基板上制造膜的方法;其中,所述粒子所附着的基板中的粘着表面的维氏硬度Hv(b)与所述粒子的维氏硬度Hv(p)之间的比率在允许所述粒子粘附到所述粘着表面的范围内。
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