[发明专利]进入目标地质体的方法和系统在审

专利信息
申请号: 200510058991.X 申请日: 2005-03-25
公开(公告)号: CN1651715A 公开(公告)日: 2005-08-10
发明(设计)人: 杨陆武;潘军;张和茂;冷开奎 申请(专利权)人: 北京奥瑞安能源技术开发有限公司
主分类号: E21B43/30 分类号: E21B43/30;E21B7/04;E21F7/00;E21C41/16
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 王景林
地址: 100016北京市朝阳*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种进入目标地质体的方法,其包括:设置辅助通道,其通过注入流体在目标地质体部分产生有利的钻探条件;设置钻探通道,其与所述辅助通道在目标地质体处或其上方连通,这样,钻探作业可以在辅助通道创造的有利条件下进行,其特征在于,钻辅助通道或钻探通道时,穿过目标地质体继续向下钻出至少一个口袋,该口袋的深度大于一预定数值,该数值在0-60米之间;通过钻探通道在目标地质体内钻水平主井眼和若干分支井眼。本发明还提供了一种进入目标地质体的系统。根据本发明,在任何地表地形或建筑情况下,都可以充分进入目标地质体。本发明还可提高系统的使用寿命,并且提高系统的经济性。
搜索关键词: 进入 目标 质体 方法 系统
【主权项】:
1.一种进入目标地质体的方法,其包括:设置辅助通道,其通过注入流体在目标地质体部分产生有利的钻探条件;设置钻探通道,其与所述辅助通道在目标地质体处或其上方连通,这样,钻探作业可以在辅助通道创造的有利条件下进行,其特征在于,钻辅助通道或钻探通道时,穿过目标地质体继续向下钻出至少一个口袋,该口袋的深度大于一预定数值,该数值在0-60米之间;通过钻探通道在目标地质体内钻水平主井眼和若干分支井眼。
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