[发明专利]显影单元的显影剂层厚度调节装置有效
| 申请号： | 200510059127.1 | 申请日： | 2005-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN1694011A | 公开（公告）日： | 2005-11-09 |
| 发明（设计）人： | 田仁哲 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/06 | 分类号： | G03G15/06;G03G21/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 马高平;杨梧 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种显影单元的显影剂层厚度调节装置，通过调节形成于显影辊上的显影剂层的厚度而改善了显影剂的密封效果。所述装置包括具有与显影辊弹性接触的刮片体的刮片。一弯曲部分形成于刮片体上面并以预定角度从与显影辊接触的显影辊接触部分延伸，以及形成于弯曲部分上的凹陷部分。密封元件与刮片接触。密封元件与凹陷部分重叠。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 单元 显影剂 厚度 调节 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于调节形成于一显影辊上的一显影剂层的一厚度的装置，所述装置包括：一刮片，具有与所述显影辊弹性接触的一刮片体、形成于所述刮片体上面并以一预定角度从与所述显影辊接触的一显影辊接触部分延伸的一弯曲部分以及形成于所述弯曲部分上的一凹陷部分；以及一密封元件，与所述刮片接触，其中所述密封元件与所述凹陷部分重叠。
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