[发明专利]集成电路结构及其形成方法有效

专利信息
申请号: 200510059170.8 申请日: 2005-03-24
公开(公告)号: CN1681124A 公开(公告)日: 2005-10-12
发明(设计)人: 布伦特·A·安德森;杨美基;爱德华·J·诺瓦克 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/092;H01L27/12;H01L21/82
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 秦晨
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开的是一种集成电路结构,含有一个至少两种类型晶向的衬底。第一类型的晶体管(例如NFET)形成在具有第一类型晶向的衬底第一部分上,以及第二类型的晶体管(例如PFET)形成在具有第一类型晶向的衬底第二部分上。一些衬底的第一部分包括非悬浮衬底部分,以及衬底的第一部分的剩余部分和衬底所有的第二部分包括悬浮衬底部分。
搜索关键词: 集成电路 结构 及其 形成 方法
【主权项】:
1.一种集成电路结构,包括:衬底,含有至少两种类型晶向;第一类型晶体管,形成在含有第一类型晶向的所述衬底的第一部分上;以及第二类型晶体管,形成在含有第二类型晶向的所述衬底的第二部分上,其中所述衬底的所述第一部分中的选择的一些部分包括非悬浮衬底部分,以及所述第一部分的剩余部分和所有的所述衬底的第二部分包括悬浮衬底部分。
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