[发明专利]发光二极管反射盖制造方法无效
| 申请号： | 200510059453.2 | 申请日： | 2005-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN1838438A | 公开（公告）日： | 2006-09-27 |
| 发明（设计）人： | 吴旭隆;陈中裕 | 申请（专利权）人： | 亿光电子工业股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 上海新高专利商标代理有限公司 | 代理人： | 楼仙英 |
| 地址： | 台湾省台北县土*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种发光二极管反射盖制造方法，包括：将一反射盖设计成一反射盖上半部及一反射盖下半部。贴上一阻流层于反射盖上半部的正面；架一导流钢板于反射盖上半部的背面，并将背面朝上。将胶通过导流钢板的孔洞刷入反射盖上半部内的中空孔部分；烘烤反射盖上半部；最后组合反射盖上半部与反射盖的下半部形成一完整的反射盖。 | ||
| 搜索关键词： | 发光二极管 反射 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种发光二极管的反射盖制造方法，至少包含以下步骤：将一反射盖设计成一反射盖上半部及一反射盖下半部；贴上一阻流层于该反射盖上半部的正面；架一导流钢板于该反射盖上半部的背面，并将背面朝上；将胶通过该导流钢板的孔洞刷入该反射盖上半部内的中空孔部分；烘烤该反射盖上半部；以及组合该反射盖上半部与该反射盖的下半部，以形成该反射盖。
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