[发明专利]磁体的制造方法、磁性粉末的成形方法以及干式成形装置有效
申请号: | 200510059509.4 | 申请日: | 2005-03-25 |
公开(公告)号: | CN1674171A | 公开(公告)日: | 2005-09-28 |
发明(设计)人: | 渡边恒树 | 申请(专利权)人: | TDK株式会社 |
主分类号: | H01F41/02 | 分类号: | H01F41/02 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种在干式成形中能够得到磁性粉末的高填充密度和高速的制造循环的磁体的制造方法、磁性粉末的成形方法以及干式成形装置。该制造方法具有填充工序和成形工序,其中所述填充工序是在将产生磁场的下模(2)配置于比预定的填充深度位置更上方的状态下,开始往凹模(3)内填充磁性粉末(G),并一边填充磁性粉末(G),一边使下模(2)相对于凹模(3)作相对移动直至达到填充深度位置;所述成形工序是在磁性粉末(G)的填充结束后的状态下,使上模(1)相对移动到凹模(3)内,从而在磁场中将磁性粉末(G)加压成形。 | ||
搜索关键词: | 磁体 制造 方法 磁性 粉末 成形 以及 装置 | ||
【主权项】:
1.一种磁体的制造方法,其特征在于:该制造方法具有填充工序和成形工序,其中所述填充工序是在将产生磁场的下模配置于比预定的填充深度位置更上方的状态下,开始往凹模内填充磁性粉末,并一边填充所述磁性粉末,一边使所述下模相对于所述凹模作相对移动直至达到所述填充深度位置;所述成形工序是在所述磁性粉末的填充结束后的状态下,使上模相对移动到所述凹模内,从而在磁场中将所述磁性粉末加压成形。
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