[发明专利]一种口腔义齿、印模、石膏模型的消毒方法无效
| 申请号： | 200510061699.3 | 申请日： | 2005-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN1775293A | 公开（公告）日： | 2006-05-24 |
| 发明（设计）人： | 俞雪芬;吴刚;谷志远 | 申请（专利权）人： | 浙江大学医学院附属口腔医院 |
| 主分类号： | A61L2/20 | 分类号： | A61L2/20 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人： | 张法高 |
| 地址： | 310006*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种口腔义齿、印模、石膏模型的消毒方法。它通过电解氯化钠或氯化钾溶液，生成酸性氧化还原电位水，利用超声震荡的方法生成的酸性氧化还原电位水雾化，并形成酸性氧化还原电解雾气饱和空间，待消毒口腔义齿、印模、石膏模型在雾气饱和空间内消毒25～90分钟，经消毒的口腔义齿、印模、石膏模型干燥30～60分钟即可。本发明可以迅速杀灭口腔医疗器械上的致病微生物，解决了口腔义齿、印模、石膏模型高效消毒和保证其精密度两者之间的难题，具有取材方便、消毒废液可回收，无污染、高效安全环保等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 口腔 义齿 印模 石膏 模型 消毒 方法 | ||
【主权项】：
1.一种口腔义齿、印模、石膏模型的消毒方法，其特征在于，通过电解氯化钠或氯化钾溶液，生成酸性氧化还原电位水，利用超声震荡的方法生成的酸性氧化还原电位水雾化，并形成酸性氧化还原电解雾气饱和空间，待消毒口腔义齿、印模、石膏模型在雾气饱和空间内消毒25～90分钟，经消毒的口腔义齿、印模、石膏模型干燥30～60分钟即可。
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