[发明专利]光学补偿片的制造方法以及光学补偿片有效

专利信息
申请号: 200510062428.X 申请日: 2005-03-28
公开(公告)号: CN1673836A 公开(公告)日: 2005-09-28
发明(设计)人: 小林照夫 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/1335
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱丹
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种可以防止膜剥离的光学补偿片的制造方法以及光学补偿片。所述光学补偿片是通过对网状的薄片(10)进行皂化处理,在经皂化处理的部分(12)上形成取向膜层(14),进而形成液晶层(16)而形成。皂化处理中碱溶液的涂敷宽度(L1)设定为大于取向膜层(14)的涂敷宽度(L2),在经过皂化处理的部分(12)内涂敷取向膜层(14)。此外,液晶层(16)的涂敷宽度(L3)设定为大于取向膜层(14)的涂敷宽度(L2),通过液晶层(16)覆盖取向膜层(14)。
搜索关键词: 光学 补偿 制造 方法 以及
【主权项】:
1.一种光学补偿片的制造方法,具有下述的工序:在使长条状支撑体移动的同时在该支撑体的表面上涂敷取向膜层的取向膜层涂敷工序、和在该取向膜层上涂敷液晶层的液晶层涂敷工序,其特征在于:通过以比前述取向膜层宽的宽度涂敷前述液晶层,而以前述液晶层覆盖前述取向膜层。
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