[发明专利]曝光装置及器件制造方法无效
| 申请号： | 200510062563.4 | 申请日： | 2005-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN1677242A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | 是永伸茂;西邑直亮 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;G01B21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 何腾云 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 由于基板载置台在曝光位置和处理位置之间移动后，必须在光轴方向进行查找等的基准对位，所以，曝光或处理的开始被推迟。为了解决该问题，本发明的曝光装置，包括；将图形在基板上曝光的曝光用光学系统；在离开前述曝光用光学系统的位置上、对前述基板进行规定的处理的基板处理系统；沿着与前述曝光用光学系统的光轴垂直的平面移动的基板载置台；以及，计测机构，该计测机构在前述基板载置台从前述基板处理系统下方向前述曝光用光学系统下方移动的期间内，在前述基板载置台的移动的整个范围内连续地计测前述基板载置台在前述光轴方向的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，包括：将图形在基板上曝光的曝光用光学系统；在离开前述曝光用光学系统的位置上，相对于前述基板进行规定的处理的基板处理单元；沿着与前述曝光用光学系统的光轴垂直的平面移动的基板载置台；计测器，在前述基板载置台从前述基板处理系统下方向前述曝光用光学系统下方移动的期间内，该计测器在前述基板载置台的移动范围内连续计测前述基板载置台在前述光轴方向上的位置。
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