[发明专利]光刻装置、照明系统和用于旋转强度分布的光学元件无效
| 申请号： | 200510062625.1 | 申请日： | 2005-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN1684000A | 公开（公告）日： | 2005-10-19 |
| 发明（设计）人： | H·M·穆德;H·博特马 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳;张志醒 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻投射装置，包括具有有矩形截面的反射积分器的照明系统。提供一种光学元件以便重新分布射出反射积分器的强度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 照明 系统 用于 旋转 强度 分布 光学 元件 | ||
【主权项】：
1.一种包括用于提供受调节的辐射束的照明系统的光刻装置，该照明系统包括：沿光刻装置的光轴设置的反射积分器，该反射积分器具有垂直于所述光轴的矩形截面，该截面的边平行于相互垂直的X和Y轴；和光学元件，构造并布置该光学元件，从而重新分布射出该反射积分器的强度分布，使得该强度分布相对于X和/或Y轴不对称。
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