[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200510062626.6 | 申请日： | 2005-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN1677243A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | H·H·M·科西;P·M·C·M·范登比格拉亚;F·范德穆伦;F·A·C·J·斯潘杰斯;J·－G·C·范德托尔恩;A·－J·米格彻布林克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明描述了一种用于湿浸式光刻的光刻装置，其中一个补偿控制器控制致动器，以便施加与由供液系统施加给基底的力基本上大小相等、方向相反的力给基底，该供液系统可在投影系统的最后元件和基底之间提供液体。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：-照射系统，用于提供辐射投射光束；-支撑结构，用于支撑构图部件，该构图部件用于给投影光束的截面赋予图案；-基底台，用于保持基底；-投影系统，用于将带图案的光束透射到基底的目标部分上；-供液系统，用于在所述投影系统的最后元件和所述基底之间提供浸液；-至少一个致动器，用于时所述基底施加力；以及-补偿控制器，用于计算由所述至少一个致动器施加给所述基底上的补偿力，以使补偿力基本上与所述供液系统施加给所述基底的力大小相等、方向相反。
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