[发明专利]盘式装置聚焦调整装置及方法无效

专利信息
申请号: 200510063839.0 申请日: 2005-04-08
公开(公告)号: CN1845244A 公开(公告)日: 2006-10-11
发明(设计)人: 杨鸿斌;黄伟庭 申请(专利权)人: 广明光电股份有限公司
主分类号: G11B7/09 分类号: G11B7/09;G11B21/02;G11B20/10
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 王志森;黄小临
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种盘式装置聚焦调整装置及方法,具有一调制单元调制接收来自读取头的射频信号为数据数字信号。于调制过程中,一除错单元用以校正读出的射频信号,一PIPO信号发生器以校正的错误次数产生一相对PIPO信号。再利用一聚焦平衡演算单元比较读取头聚焦平衡位置的PIPO信号值,由新产生的PIPO信号分别与PIPO信号目标值、前一PIPO信号比较,获得聚焦平衡位置的收敛的方向及速度,适度调整收敛的方向及预定量,调整聚焦平衡的位置,直到PIPO信号小于等于PIPO信号目标值传输信号至补偿器,经由聚焦伺服单元以控制读取头调整聚焦平衡位置,以快速达到聚焦平衡位置,提升盘式装置的整体效能。
搜索关键词: 装置 聚焦 调整 方法
【主权项】:
1.一种盘式装置聚焦调整装置,该盘式装置具有一读取头读取记号产生一射频信号,该聚焦调整装置包含:一调制单元,接收来自读取头的射频信号,调制为数据数字信号;一PIPO信号发生器,相对该数字信号调制过程中形成的错误次数,产生一PIP0信号;以及一聚焦平衡演算单元,比较读取头聚焦平衡位置的PIPO信号值,由聚焦平衡位置的收敛的方向及速度,调整读取头聚焦位置。
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