[发明专利]磁记录介质和磁记录装置有效
| 申请号： | 200510063866.8 | 申请日： | 2005-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN1684148A | 公开（公告）日： | 2005-10-19 |
| 发明（设计）人： | 市原贵幸;中村敦;玉井一郎;细江让 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/65 | 分类号： | G11B5/65 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 杨林森;谷惠敏 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种垂直磁记录介质，其能够协调高记录密度和高热稳定性，具有高写入能力，同时保持高磁各向异性能。该垂直磁记录介质具有软磁衬层(13)和磁记录层，该磁记录层包括含取向于介质平面法线方向的磁性晶粒的第一记录层(15)和含沿横轨方向倾斜的磁性晶粒的第二记录层(16)。这是一种能够抵抗热波动，介质噪音小，并且写入能力优秀的垂直磁记录介质。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 装置 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，具有软磁衬层、用于记录信息的磁记录层和在软磁衬层和磁记录层之间形成的包含至少一层的中间层，所述磁记录层包括：包含铁磁性晶粒以形成柱状结构的第一记录层和第二记录层，其中第一记录层具有沿介质平面法线方向取向的柱状物，第二记录层具有沿横轨方向倾斜的柱状物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立环球储存科技荷兰有限公司，未经日立环球储存科技荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510063866.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
