[发明专利]光半导体集成电路装置有效

专利信息
申请号: 200510063927.0 申请日: 2005-03-30
公开(公告)号: CN1677685A 公开(公告)日: 2005-10-05
发明(设计)人: 高桥强;冈部克也;初谷明 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社
主分类号: H01L27/14 分类号: H01L27/14
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李贵亮;杨梧
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种光半导体集成电路装置,在蓝激光用的光电二极管中,具有位于光电二极管的受光区域上面的开口部的台阶会使遮光膜破断这样的问题。在本发明的光半导体集成电路装置中,在光电二极管的受光区域,通过在绝缘层上阶梯状地形成开口部,降低开口部的台阶。由此,改善覆盖于其上的遮光膜的分步敷层。因此,位于光电二极管的受光区域上面的开口部的台阶不会使遮光膜破断。因此,解决了现有的遮光膜破断这样的问题。
搜索关键词: 半导体 集成电路 装置
【主权项】:
1、一种光半导体集成电路装置,其内装形成于半导体层上的光电二极管,其特征在于,在层积于所述半导体层表面的绝缘层上,在所述光电二极管的受光区域上阶梯状形成开口部,并在所述绝缘层上覆盖遮光膜。
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