[发明专利]磁记录介质无效

专利信息
申请号: 200510065665.1 申请日: 2005-03-03
公开(公告)号: CN1758344A 公开(公告)日: 2006-04-12
发明(设计)人: 诹访孝裕;高井充;服部一博;大川秀一;日比干晴 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: G11B5/82 分类号: G11B5/82;G11B5/012
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘红;梁永
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种磁记录介质,至少包括盘衬底1、以预定的凹凸图案形成于盘衬底1上的磁记录层5、以及形成在凹凸图案的凹入部分中的非磁性层6。由非磁性材料制成的凸起形状形成在磁记录层5或者非磁性层6上。每个凸起形状例如形成为山形,其上表面的宽度(W1或W2)小于磁记录层5的每个凸起部分的宽度W5或者小于非磁性层6形成其中的每个凹入部分的宽度W6。
搜索关键词: 记录 介质
【主权项】:
1.一种磁记录介质,包括:盘衬底;以预定的凹凸图案形成于所述盘衬底上的磁记录层;形成在所述凹凸图案中的凹入部分的非磁性层;和由非磁性材料制成、形成在所述磁记录层和所述非磁性层的至少其中之一上的凸起形状,其中,每个所述凸起形状的上表面的宽度小于所述磁记录层的所述凹凸图案的每个凸起部分的宽度或者小于所述非磁性层形成其中的每个所述凹入部分的宽度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社,未经TDK株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510065665.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top