[发明专利]一种离子注入均匀性控制系统及控制方法有效
| 申请号： | 200510066337.3 | 申请日： | 2005-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN1851867A | 公开（公告）日： | 2006-10-25 |
| 发明（设计）人： | 邱小莎;唐景庭;王迪平;刘仁杰;郭建辉;伍三忠;孙勇 | 申请（专利权）人： | 北京中科信电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/265 | 分类号： | H01L21/265;H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京中海智圣知识产权代理有限公司 | 代理人： | 曾永珠 |
| 地址： | 100036北京市海淀区复兴路*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种离子注入均匀性控制系统及控制方法，涉及离子注入机，属于半导体制造领域。该系统包括移动法拉第杯、剂量积分检测器、数控扫描发生器、靶台运动和均匀性控制器和计算机，所述的移动法拉第杯输出与剂量积分检测器连接；所述的剂量积分检测器输出与靶台运动和均匀性控制器连接；所述的移动法拉第杯、剂量积分检测器、数控扫描发生器、靶台运动和均匀性控制器均与计算机连接，由计算机协调动作并进行控制；均匀性控制方法包括水平均匀性检测与修正方法和垂直均匀性检测与修正方法，均通过检测扫描数据、多次修正数据来使得均匀性达到误差范围。本发明能够自动实现离子注入剂量的精确检测、自动调整和剂量均匀性控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 注入 均匀 控制系统 控制 方法 | ||
【主权项】：
1、一种离子注入均匀性控制系统，包括移动法拉第杯、剂量积分检测器、数控扫描发生器、靶台运动和均匀性控制器和计算机，其特征在于：所述的移动法拉第杯输出与剂量积分检测器连接；所述的剂量积分检测器输出与靶台运动和均匀性控制器连接；所述的移动法拉第杯、剂量积分检测器、数控扫描发生器、靶台运动和均匀性控制器均与计算机连接，由计算机协调动作并进行控制。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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