[发明专利]平面型垂直记录头无效
| 申请号： | 200510066734.0 | 申请日： | 2005-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN1697023A | 公开（公告）日： | 2005-11-16 |
| 发明（设计）人： | 小罗伯特·E·方塔纳;何国山;曾庆骅 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/31 | 分类号： | G11B5/31;G11B5/60 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒;魏晓刚 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于垂直记录的不需要研磨的磁头(滑块)。磁头具有平行于晶片表面的气垫面。线圈和极片由平行于气垫面设置的薄膜形成。可以使用标准光刻技术来限定形状、缝隙和极片尺寸。可以形成非直线形状，例如与写极片区域周围一致的侧屏蔽件。主极和返回极的厚度由沉积工艺而不是研磨控制。用来将各个滑块与晶片其余部分分离的锯切垂直于气垫面，并且不经过任何重要部件。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 垂直 记录 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜磁记录头，用于与磁记录介质一起使用，包括：写入头，包括：主极片，其设置在气垫面处，由平行于衬底表面和所述气垫面设置的薄膜形成在第一薄膜平面内；以及返回极片，设置在所述第一薄膜平面内，由平行于衬底表面和所述气垫面设置的薄膜形成在第一薄膜平面内。
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