[发明专利]激光照射设备和制造半导体器件的方法有效

专利信息
申请号: 200510066914.9 申请日: 2005-04-25
公开(公告)号: CN1691293A 公开(公告)日: 2005-11-02
发明(设计)人: 田中幸一郎;山本良明 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L21/324 分类号: H01L21/324;H01L21/00;B23K26/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴立明;梁永
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于提供一种激光照射设备,其能够用具有均匀能量密度的激光束照射照射物体,而不使光学系统变复杂。本发明的激光照射设备,包括:激光振荡器;光学系统,用于在照射物体的表面之上在单轴方向上重复地扫描自激光振荡器发出的激光束的束斑;以及定位控制装置,用于在与单轴方向垂直的方向上相对于激光束移动照射物体的位置。
搜索关键词: 激光 照射 设备 制造 半导体器件 方法
【主权项】:
1.一种激光照射设备,包括:激光振荡器;光学系统,用于通过扫描从激光振荡器发出的激光束来形成准线性束斑,以便沿着直线来回移动;和用于在与准线性束斑的主轴相交的方向上,相对于激光束移动照射物体的位置的装置;其中通过所述装置移动照射物体,使得在照射第一照射区后,用准线性束斑照射的第一照射区与用准线性束斑照射的第二照射区部分重叠,且其中在第一照射区完全固化之前,通过所述装置将准线性束斑的位置从第一照射区移动到第二照射区。
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