[发明专利]化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 200510067313.X | 申请日： | 2005-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN1690856A | 公开（公告）日： | 2005-11-02 |
| 发明（设计）人： | 宫城贤;馆俊聪;新仓聪 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供高温加热处理时抗蚀剂图案形状不变形，升华物的产生也少，耐热性优异的光致抗蚀剂组合物。所述化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物，含有(A)树脂成分、(C)通过放射线的照射产生酸成分的化合物、和有机溶剂，具有通过由所述(C)成分产生的酸成分的作用，对于碱水溶液的溶解性增大的性质，其中，所述(A)成分含有树脂成分(a1)，树脂成分(a1)是用酸解离性溶解抑制基将碱可溶性酚醛清漆树脂的全部酚性羟基的一部分保护，对形成的碱难溶性或不溶性的树脂实施将低分子量体分离去除的处理而得到的。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 增幅 型正型光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物，其含有(A)树脂成分、(C)通过放射线的照射产生酸成分的化合物、和有机溶剂，具有通过由所述(C)成分产生的酸成分的作用，对于碱水溶液的溶解性增大的性质，其特征在于：所述(A)成分含有树脂成分(a1)，树脂成分(a1)是用酸解离性溶解抑制基将碱可溶性酚醛清漆树脂的全部酚性羟基的一部分保护，对形成的碱难溶性或不溶性的树脂实施将低分子量体分离去除的处理而得到的。
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