[发明专利]沉积薄膜的方法和具有用于喷洒清洁气体的单独喷射口的薄膜沉积系统有效
申请号: | 200510067928.2 | 申请日: | 2005-04-28 |
公开(公告)号: | CN1693535A | 公开(公告)日: | 2005-11-09 |
发明(设计)人: | 朴海进;罗圣闵 | 申请(专利权)人: | 周星工程股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 王允方 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明揭示了一种薄膜沉积系统和方法。所述薄膜沉积系统包括一反应室、至少一个安装在所述反应室中用于在其上安装一基板的基座、一个以旋转方式定位在所述基座上的第一气体喷雾器和至少一个安装在所述第一气体喷雾器上用于喷洒清洁气体的第二气体喷雾器。所述薄膜沉积系统可增加源气体到所述基板表面的吸收率,有效缩短气体的供给循环以改进其生产率,且改进所述清洁气体的清洁效果以使得薄膜稳定地沉积到所述基板上。 | ||
搜索关键词: | 沉积 薄膜 方法 具有 用于 喷洒 清洁 气体 单独 喷射 系统 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜沉积系统,其包含:一反应室;至少一个安装在所述反应室中用于在其上安装一基板的基座;一以旋转方式定位在所述基座上的第一气体喷雾器;和至少一个定位在一对应于所述基座的位置用于垂直加速由所述第一气体喷雾器供给的气体的加速构件。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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