[发明专利]基板输送装置及其清洗方法和基板处理系统及其清洗方法无效
| 申请号： | 200510067932.9 | 申请日： | 2005-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN1736830A | 公开（公告）日： | 2006-02-22 |
| 发明（设计）人： | 守屋刚;中山博之 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B65G49/05 | 分类号： | B65G49/05;B65G49/07;H01L21/00;H01L21/68 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种在不降低基板处理系统实际作业率的情况下能充分清除堆积粒子的基板输送装置。基板输送装置(10)由箱状的腔室(11)及腔室(11)内配有的输送臂(12)、负责该腔室(11)内排气的排气管线(15)、使N2气体进入腔室(11)内的气体导入管线(18)等构成。利用输送臂(12)使施加高电压的带有电极层(25)的拾取器(24)移动到腔室(11)内所希望的位置。气体导入管线(18)将N2气体导入腔室(11)内，且由排气管线(15)使腔室(11)排气，使腔室(11)内产生粘性流，再对移至希望位置的拾取器(24)的电极层(25)加高电压，从而使腔室(11)内面和拾取器(24)之间产生静电场，这样，静电应力就会作用于粒子堆积的腔室(11)内面。 | ||
| 搜索关键词： | 输送 装置 及其 清洗 方法 处理 系统 | ||
【主权项】：
1.一种基板输送装置，其特征在于，该基板输送装置设有：收容基板的收容室；配置于该收容室内且输送所述基板的基板输送部；对所述收容室内排气的排气部；和将气体导入所述收容室内的气体导入部，所述基板输送部包括：载置所述基板的载置部；一端与该载置部连接并使所述载置部移动的腕部；和配置在所述载置部上且施加电压的电极，所述收容室内进行所述气体导入及使所述收容室内排气时，对所述电极施加高电压。
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