[发明专利]基板的处理装置以及处理方法有效
| 申请号： | 200510068565.4 | 申请日： | 2005-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN1676231A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | 末吉秀树;矶明典;丰岛范夫;广濑治道;高木慎一郎 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子株式会社 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B17/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 黄剑锋 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基板的处理装置，可以使腔内的气体相对该腔的宽度方向和长度方向均匀地排出。该装置具有装置主体(1)、传送辊(17)、主排气通道(6)以及多个分支排气通道(8)，其中装置主体(1)形成用处理液进行处理的腔(5a，5c)，传送辊(17)沿着上述腔内的预定方向传送基板，主排气通道(6)位于基板的上方，沿基板的传送方向设置在与基板传送方向相交叉的上述腔的宽度方向的中央部分上，分支排气通道(8)的一端连通上述主排气通道，另一端位于腔宽度方向的端部以形成抽吸腔内气体的抽气口(9)，并且分支排气通道(8)以主排气通道为中心在上述腔的宽度方向上对称地设置。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，用处理液对基板进行处理，其特征在于，该装置具有：形成有用处理液处理上述基板的腔的装置主体；沿着上述腔内的预定方向传送上述基板的传送机构；位于上述基板上方的主排气通道，其沿基板的传送方向设置在与基板传送方向相交叉的上述腔的宽度方向的中央部分上；和多个分支排气通道，其一端与上述主排气通道连通、另一端位于上述腔的宽度方向的端部以形成抽吸腔内的气体的抽气口，并且以上述主排气通道为中心在上述腔的宽度方向上对称地设置。
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