[发明专利]磁路用的金属叠片无效
| 申请号： | 200510068813.5 | 申请日： | 2005-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN1700561A | 公开（公告）日： | 2005-11-23 |
| 发明（设计）人： | 格列格·P·切尔文卡;福里斯特·M·马蒂诺 | 申请（专利权）人： | 国家－油井公司 |
| 主分类号： | H02K1/06 | 分类号： | H02K1/06;H02K1/12;H02K1/22 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 段斌;顾红霞 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 磁路用的金属叠片。所示实施例中的某些可以是包括低磁阻磁通路径的磁路，其中所述路径包括多个堆叠的叠片(每个叠片都有一个边缘)，和处在与堆叠金属叠片边缘的至少一部分工作关系中的空隙(其中磁通至少部分穿过堆叠的金属叠片和空隙)。故意使堆叠金属叠片的相邻边缘偏移，其中偏移量大于堆叠金属叠片边缘部分的制造公差，从而改善在边缘处叠片与叠片接触造成的涡流损耗。 | ||
| 搜索关键词： | 磁路 金属 | ||
【主权项】：
1.磁路，包括：低磁阻磁通路径，包括多个堆叠的金属叠片，每个叠片具有一个边缘；空隙，与堆叠金属叠片边缘的至少一部分有操作关系，其中磁通至少部分穿过堆叠的金属叠片和空隙；其中堆叠金属叠片相邻边缘的偏移量大于堆叠金属叠片边缘位置的制造公差。
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