[发明专利]Cu-Ni-Si-Mg系铜合金条有效
申请号: | 200510069761.3 | 申请日: | 2005-04-13 |
公开(公告)号: | CN1683580A | 公开(公告)日: | 2005-10-19 |
发明(设计)人: | 前田直文;波多野隆绍 | 申请(专利权)人: | 日矿金属加工株式会社 |
主分类号: | C22C9/06 | 分类号: | C22C9/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 郭煜;庞立志 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种具有优异的强度、导电性、耐应力驰豫特性、弯曲加工性、蚀刻性、润湿性、可镀涂性,并且能够稳定生产的Cu-Ni-Si-Mg系合金。它是一种具有下述组成的铜基合金:含有1.0-4.0质量%的Ni,含有相对于Ni质量%浓度1/6-1/4浓度的Si,含有0.05%-0.3质量%的Mg,余量为Cu和不可避免的杂质;其特征在于,在与轧制方向平行的断面中,Ni-Si系化合物粒子具有下面(1)和(2)的分布状态:(1)粒径是10μm以上且20μm以下的Ni-Si系化合物粒子的个数是2个/mm2以下,(2)在由粒径2μm以上且20μm以下的Ni-Si系化合物粒子构成的Ni-Si系粒子群中,长度0.05mm以上且1.0mm以下的Ni-Si系粒子群的个数是2个/mm2以下。 | ||
搜索关键词: | cu ni si mg 铜合金 | ||
【主权项】:
1、一种Cu-Ni-Si-Mg系铜合金条,它是一种由下述组成构成的铜基合金:含有1.0-4.0质量%的Ni,含有相对于Ni质量百分浓度1/6-1/4浓度的Si,含有0.05%-0.3质量%的Mg,余量为Cu和不可避免的杂质;其特征在于,在与轧制方向平行的断面中,Ni-Si系化合物粒子具有下面(1)和(2)的分布状态:(1)粒径为10μm以上且20μm以下的Ni-Si系化合物粒子的个数是2个/mm2以下,(2)在由粒径2μm以上且20μm以下的Ni-Si系化合物粒子构成的Ni-Si系粒子群中,长度为0.05mm以上且1.0mm以下的Ni-Si系粒子群的个数是2个/mm2以下。
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