[发明专利]化学增幅光阻剂组成物

摘要

本发明是有关于一种化学增幅光阻剂组成物，是含有如右式(I)结构单元的高分子聚合物，其中R¹为氢、C₁－C₄的烷基、三氟甲基(CF₃)；Q为C₄－C₁₂的环状烷基；R²为：H、C₁－C₄的烷基、三氟甲基(CF₃)；R³为C₄－C₁₂的分枝状或环状烷类的酸敏感基；且x+y+z＝1。本发明中的化学增幅光阻剂组成物，可以应用于目前一般的微影制程法，尤其针对于波长193nm光源的微影制程法，能得到优良的微影图形、解析度、轮廓与感光度。

主权项

1.一种化学增幅光阻剂组成物，其特征在于，其是含有如下式(II)结构单元的高分子聚合物其中R1为氢、C1-C4的烷基、三氟甲基；Q为：C4-C12的环状烷基；R2为氢、C1-C4的烷基、三氟甲基；R3为C4-C12的枝状或环状烷类的酸敏感基；R4为氢、C1-C4的烷基、三氟甲基；R5为C4-C12的环状烷类取代基；且x+y+z+w＝1。