[发明专利]成像装置及其设置方法有效

专利信息
申请号: 200510071647.4 申请日: 2005-03-01
公开(公告)号: CN1758439A 公开(公告)日: 2006-04-12
发明(设计)人: 若野寿史;马渕圭司 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: H01L27/14 分类号: H01L27/14;H01L27/146;H04N5/335
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 马高平;杨梧
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种CMOS传感器的光学系统,该系统包括使出射光瞳距在成像平面的中心区域短而在成像平面的外围区域长的一非球面透镜。非球面透镜起到使得出射光瞳距从成像平面的中心区域朝着成像平面的外围区域单调增大。另外,根据出射光瞳距d进行光瞳校正,所述出射光瞳距d满足(d1+d2)/2<d<d2,该式中d1是成像平面中心处的出射光瞳距,d2是成像平面边缘处的出射光瞳距。
搜索关键词: 成像 装置 及其 设置 方法
【主权项】:
1、一成像装置,其包括:一固态成像装置,其包括一光接收单元,在该单元上集成着多个具有光电转换器的像素;芯片上透镜,其与所述像素相对应地设置在所述光接收单元的一成像平面上;以及一光学系统,其控制入射在所述光接收单元上的光,该光学系统包括一孔径和一非球面透镜,所述孔径控制入射在所述光接收单元上的光强,所述非球面透镜设置在所述光接收单元与所述孔径之间,并控制入射光,使出射光瞳距在所述成像平面的中心区域短而在成像平面的外围区域长。
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