[发明专利]显示装置的制造方法无效
| 申请号： | 200510071747.7 | 申请日： | 2005-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN1678146A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | 秋吉宗治 | 申请（专利权）人： | 东芝松下显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;H05B33/22;H05B33/02;H05B33/12 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沈昭坤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 包括：在基板(120a)上形成绝缘层(201)的工序，将第1掩模材料(203)涂布在绝缘层(201)上对应第1色像素的区域的工序，将第2掩模材料(203)涂布在绝缘层(201)上对应第2色像素的区域的工序，采用第1及第2掩模材料对绝缘层(201)进行构图并且形成各自光栅节距不同的第1衍射光栅及第2衍射光栅(115)的工序，其特征在于：通过选择涂布方式涂布第1及第2掩模材料。 | ||
| 搜索关键词： | 显示装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种显示装置的制造方法，所述显示装置包括：配置在基板上、射出不同波长光的第1色像素和第2色像素、对应上述第1色像素设有的第1衍射光栅、对应上述第2色像素设有的、光栅节距与上述第1衍射光栅不同的第2衍射光栅，该显示装置的制造方法包括：在上述基板上形成绝缘层的工序，在上述绝缘层上对应上述第1色像素的区域上涂布第1掩模材料的工序，在上述绝缘层上对应上述第2色像素的区域上涂布第2掩模材料的工序，采用上述第1掩模材料以及上述第2掩模材料对上述绝缘层构图，并且分别形成上述第1衍射光栅以及第2衍射光栅的工序，其特征在于：通过选择涂布方式涂布上述第1掩模材料以及上述第2掩模材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东芝松下显示技术有限公司，未经东芝松下显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510071747.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
