[发明专利]器件制造方法无效
| 申请号： | 200510071757.0 | 申请日： | 2005-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN1690863A | 公开（公告）日： | 2005-11-02 |
| 发明（设计）人： | A·德韦里斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳;陈景峻 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种根据本发明的实施例，制造在衬底的两面都具有器件层的器件的方法，包括确保衬底在背面曝光期间的移动为正面曝光期间的移动的镜像。因而在这类方法的应用中，与正面曝光相比，背面曝光中的是移动方向特性的定位误差是反转的，从而使得正面和背面之间的净重叠误差为零或近似于零。本发明的实施例可以用于在某种定位误差的类型中无需成本、改进机器或生产量即可减少重叠误差上升。 | ||
| 搜索关键词： | 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种器件制造方法，包括：投影至少一个图案到衬底的第一面的第一系列目标部分上；绕一个轴旋转该衬底；以及投影至少一个图案到该衬底的第二面的第二系列目标部分上，所述的第二系列目标部分对应于所述的第一系列目标部分；其中所述衬底在所述投影至少一个图案到第二系列目标部分期间的相对移动是所述衬底在所述投影至少一个图案到第一系列目标部分期间的相对移动关于所述轴的镜像。
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