[发明专利]一种快响应宽频段光探测器无效

专利信息
申请号: 200510071811.1 申请日: 2005-05-24
公开(公告)号: CN1869612A 公开(公告)日: 2006-11-29
发明(设计)人: 赵昆;吕惠宾;黄延红;何萌;金奎娟;陈正豪;周岳亮;杨国桢 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: G01J1/42 分类号: G01J1/42;G01J9/00;G01J11/00
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 代理人: 高存秀
地址: 100080北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种快响应宽频段光探测器,包括:p型或n型硅片为衬底;在其上相应生长一层n型或p型的光响应材料层做成芯片,所述的光响应层为生长在硅片衬底上的掺杂钛酸锶薄膜,该掺杂钛酸锶光响应材料层厚度为0.5nm-5μm;第一电极设置在光响应材料层上,第二电极设置在硅片面上,每根电极引线的一端分别与二个电极连接,电极引线的另一端是信号输出端;电阻的两端分别和电极引线的输出端连接。该探测器均为光生伏特型,当光照射后直接产生电压信号,不需要任何辅助的电源和电子电路。其响应波段从紫外到远红外,可响应飞秒脉宽的激光脉冲,激光脉冲产生电压脉冲的前沿小于1ns,半宽度小于2ns,脉冲全宽度仅为几个ns。
搜索关键词: 一种 响应 宽频 探测器
【主权项】:
1.一种快响应宽频段光探测器,包括:p型或n型硅片为衬底(1);在其上相应生长一层n型或p型的光响应材料层(2)做成芯片,第一电极(3)、第二电极(4)和两根引线(6);其特征在于:还包括一电阻(5);所述芯片的光响应层(2)为生长在硅片衬底(1)上的掺杂钛酸锶薄膜,该掺杂钛酸锶光响应材料层(2)厚度为0.5nm-5μm;第一电极(3)设置在光响应材料层(2)上,第二电极(4)设置在硅片(1)面上,两根电极引线(6)的一端分别与第一电极(3)和第二电极(4)连接,电极引线(6)的另一端是信号输出端;电阻(5)的两端分别和两根电极引线(6)的输出端连接。
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