[发明专利]三维纳米多孔薄膜及其制造方法有效
| 申请号： | 200510071892.5 | 申请日： | 2005-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN1869736A | 公开（公告）日： | 2006-11-29 |
| 发明（设计）人： | 王武敬;王彦博;李云卿;陈重裕;施希弦;陈先彬 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 台湾省新竹县*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种三维纳米多孔薄膜及其制造方法，特别涉及一种具有高机械强度及抗反射能力的三维纳米多孔薄膜及其制造方法。该薄膜的制造方法包括：(a)提供基底，该基底具有预涂布面；(b)于该基底的预涂布面上形成由三维纳米多孔涂覆组合物组成的膜层；(c)给该由三维纳米多孔涂覆组合物组成的膜层提供能量，使该三维纳米多孔涂覆组合物进行聚合反应，以于该基底的预涂布面上形成有机无机混合层；和(d)由第二溶剂将模板材由该有机无机混合层中溶出，形成三维纳米多孔薄膜。该三维纳米多孔薄膜有效折射率在1.45以下，反射率不大于3％，具有极佳的机械强度及硬度，非常适合作为显示装置的抗反射及抗磨耗涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 三维 纳米 多孔 薄膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种三维纳米多孔薄膜的制造方法，包括：(a)提供基底，该基底具有预涂布面；(b)于该基底的预涂布面上形成由三维纳米多孔涂覆组合物所组成的膜层，其中该三维纳米多孔涂覆组合物是包含在第一溶剂中，形式为均匀溶液的：45至95重量百分比的含氧化合物胶体，其中该含氧化合物胶体具有可聚合基团，且该含氧化合物胶体是3B族含氧化合物胶体、4B族含氧化合物胶体、5B族含氧化合物胶体、硅氧烷胶体、金属含氧化合物胶体或其组合；5至55重量百分比的模板材；以及0.1至10重量百分比的起始剂，其中上述该重量百分比是以该含氧化合物胶体和该模板材的总重量为基准；(c)给该由三维纳米多孔涂覆组合物所组成的膜层提供能量，使该三维纳米多孔涂覆组合物进行聚合反应，以于该基底的预涂布面上形成有机无机混合层；以及(d)由第二溶剂将该模板材由该有机无机混合层中溶出，以形成三维纳米多孔薄膜。
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