[发明专利]抗蚀材料以及图案形成方法无效
| 申请号： | 200510072000.3 | 申请日： | 2005-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN1702550A | 公开（公告）日： | 2005-11-30 |
| 发明（设计）人： | 岸村真治;远藤政孝;屉子胜;上田充;饭森弘和;福原敏明 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 徐雁漪 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种包含基础聚合物的抗蚀材料，其中基础聚合物中含有的化合物具有以化学式1的通式所表示的单元，其中R1、R2及R3相同或者不同，为氢原子、氟原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、或者氟代烷基；R4为碳原子数为0～20的直链亚烷基、或者支链或环状亚烷基；R5为氢原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、氟代烷基、或者由酸脱离出来的保护基；R6为含环酯化合物的基团、含有含羟基的脂环化合物的基团或者含有含六氟异丙醇的化合物的基团。 | ||
| 搜索关键词： | 材料 以及 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种包含基础聚合物的抗蚀材料，其中基础聚合物中含有的化合物具有由以下化学式1的通式所表示的单元，化学式1：其中R1、R2及R3相同或者不同，为氢原子、氟原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、或者氟代烷基；R4是碳原子数为0～20的直链亚烷基、或者支链或环状亚烷基；R5为氢原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、氟代烷基、或者由酸脱离出来的保护基；R6为含环酯化合物的基团、含有含羟基的脂环化合物的基团或者含有含六氟异丙醇的化合物的基团。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社，未经松下电器产业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510072000.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：标签单元及其读/写装置
- 下一篇：薄页纸软化组合物和包含该组合物的薄页纸
