[发明专利]一种主被动控制激光相干合成装置无效
| 申请号： | 200510072343.X | 申请日： | 2005-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN1874082A | 公开（公告）日： | 2006-12-06 |
| 发明（设计）人： | 彭钦军;许祖彦;薄勇;郭新军;耿爱丛;杨晓冬 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | H01S3/00 | 分类号： | H01S3/00;H01S3/23;H01S3/05;H01S3/09;H01S3/10;H01S3/14;G02F1/00 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高存秀 |
| 地址： | 100080北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种主被动控制激光相干合成装置，利用激光腔内损耗机理实现相位的自调节和结合主动控制实现在高功率输出时仍然获得相位锁定，同时，可直接获得合成后的单一束激光输出。该装置包括至少两个谐振腔构成Vernier－Michelson谐振腔或Mach－Zehnder谐振腔或Fox－Smith谐振腔，检测器检测束分离器分出的输出光强，通过反馈控制相位变化，实现激光相干合成。本发明具有高效率、结构紧凑、能够实现大功率单一束激光输出和系统性能稳定的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 被动 控制 激光 相干 合成 装置 | ||
【主权项】：
1.一种主被动控制激光相干合成装置，包括：至少两个泵浦源，至少两个激光谐振腔，至少两块激光介质，至少一输出耦合腔镜(5)；其特征在于：第一全反腔镜(1)、45度全反镜(3)、束分离器(4)和所述输出耦合腔镜(5)构成第一激光谐振腔；第二全反腔镜(1’)、束分离器(4)和所述输出耦合腔镜(5)构成第二激光谐振腔；第一激光介质(2)放置在第一激光谐振腔的光路中，第二激光介质(2’)放置在第二激光谐振腔的光路中；第一泵浦源(13)对第一激光谐振腔中的第一激光介质(2)泵浦，第二泵浦源(14)对第二激光谐振腔中的第二激光介质(2’)泵浦；至少一检测器(10)置于束分离器(4)的一侧，所述检测器(10)与反馈控制器(11)、驱动器(12)顺序连接。
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