[发明专利]曝光装置

摘要

一种曝光装置，防止由感光树脂层所挥发的挥发物质附着于凹面镜，从而可防止凹面镜的反射率降低。该曝光装置在壳体(5)内具有光源(10)、平面镜(21、23)、复眼透镜(22)、凹面镜(24)、掩模框架(31)以及承载台(30)，所述曝光装置还具有：送风口(40)，设于该壳体(5)内并沿着凹面镜的凹面送风；设于该送风路径的空气净化过滤器(42)；以及排气孔(60)，设置于设有承载台的底板上，沿着凹面镜的凹面将送来的空气排出至壳体(5)外。并且，曝光装置(1)在经由凹面镜而与送风口相对置的壳体(5)内的壁面上具有导风板(50)，其将沿凹面镜的凹面送来的空气引导至排气孔。

主权项

1、一种曝光装置，在壳体中设有：光源，照射包含规定波长的紫外线的光；平面镜及凹面镜，使来自该光源的光沿预先设定的光路反射；复眼透镜，配置于上述光路中；掩模框架，支承设于上述凹面镜下方的掩模；承载台，承载基板，并使基板配置成与该掩模框架的掩模相面对；其特征在于，具有：送风口，设于上述壳体内，沿着上述凹面镜的凹面送风；空气净化过滤器，设于上述送风的路径上；以及排气孔，设于设有上述承载台的底板上，将沿着上述凹面镜的凹面送来的空气排出至所述壳体外面。