[发明专利]光学放大率调节系统与投影曝光设备有效
| 申请号： | 200510073570.4 | 申请日： | 2002-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN1721995A | 公开（公告）日： | 2006-01-18 |
| 发明（设计）人： | 松本德嘉;小渡望;平林洋一 | 申请（专利权）人： | 株式会社阿迪泰克工程 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明披露了一种能够精细校正放大率的光学放大率调节系统。将第一平凸透镜1安装在物面5的一侧，将第二凹平透镜2安装在成像面7的一侧。通过控制第一透镜与第二透镜之间的中心间隔d，放大或缩小图像。分别根据如下等式设置第一透镜的凸面和第二透镜的凹面的曲率半径R2和R3。 R2＝(1－n1)/φ2；R3＝(n2－1)/φ3。其中φ2和φ3分别表示屈光力，n1和n2分别表示折射率。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 放大率 调节 系统 投影 曝光 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于将电路图形等印制在印刷电路板上的光学投影曝光设备，该设备包括：光掩模，具有规定图形，投影装置，用于将所述光掩模图形投影到所述印刷电路板上，光源，通过所述投影装置辐照曝光射线，从而将所述光掩模图形印制在所述印刷电路板上，以及光学放大率调节系统，安装在所述光掩模与所述印刷电路板之间，从而至少在一个任意方向校正所述图形的放大率。
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