[发明专利]对组基板的紫外光照射装置无效
申请号: | 200510073866.6 | 申请日: | 2005-05-25 |
公开(公告)号: | CN1869794A | 公开(公告)日: | 2006-11-29 |
发明(设计)人: | 黄郁豪 | 申请(专利权)人: | 奇美电子股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/136 | 分类号: | G02F1/136;G02F1/1333;G09F9/35 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 魏晓刚;李晓舒 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种紫外光照射装置(UV Curing Apparatus),该装置至少包括:一承载部,用以承载一对母板;及一光学部,用以照射该对母板。光学部至少包括一背光模块,位于承载部的一侧,用以使光线均匀照射至该对母板,其中背光模块包括一光源和一导光板,或是一光源组和多片导光板的组合。本发明的紫外光照射装置利用背光模块(Backlight Unit)进行紫外光照射,以提升光线照射至母板的均匀度。另外,若配合点状光源,还可进一步提升照度和缩短制作工艺时间。 | ||
搜索关键词: | 组基板 紫外光 照射 装置 | ||
【主权项】:
1.一种紫外光照射装置,包括:一承载部,用以承载一对母板;及一光学部,用以照射该对母板,该光学部至少包括;一背光模块,位于该承载部的一侧,用以使光线均匀照射至该对母板,其中该背光模块至少包括一导光板和一光源,且该光源位于该导光板的侧边处。
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