[发明专利]RI标记化合物合成系统无效
| 申请号： | 200510073925.X | 申请日： | 2005-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN1702778A | 公开（公告）日： | 2005-11-30 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木基仁 | 申请（专利权）人： | 住友重机械工业株式会社 |
| 主分类号： | G21F7/015 | 分类号： | G21F7/015;A61K49/00;A61K51/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可以连续制造RI化合物的RI标记化合物合成系统(1)。其中，对应于一个RI原料合成部3设置多个RI化合物制造部(7)，通过切换导入标记前体的RI化合物制造部，可以依次利用其它的RI化合物制造部(7)，交换一个RI化合物制造部(7)或者使放射能衰减时，可以利用其它的RI化合物制造部(7)。 | ||
| 搜索关键词： | ri 标记 化合物 合成 系统 | ||
【主权项】：
1.一种RI标记化合物合成系统，其包括：利用放射性同位素合成标记前体的RI原料合成部和导入有所述标记前体、试剂并制造放射性同位素标记化合物的RI化合物制造部，其特征在于：对应于所述RI原料合成部设置有多个所述RI化合物制造部，并且具备有选择地切换被导入所述标记前体的所述RI化合物制造部的切换装置。
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