[发明专利]配线基体部件及其制造方法无效
申请号: | 200510074673.2 | 申请日: | 2005-05-30 |
公开(公告)号: | CN1702856A | 公开(公告)日: | 2005-11-30 |
发明(设计)人: | 臼井良辅;中村岳史 | 申请(专利权)人: | 三洋电机株式会社 |
主分类号: | H01L23/12 | 分类号: | H01L23/12;H01L21/48;H05K1/02;H05K3/46 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 李贵亮;杨梧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种配线基体部件,具有绝缘树脂膜和设于其表面的第二导电膜及第一导电膜。另外,配线基体部件包括埋入设于绝缘树脂膜的凹部而形成且电连接绝缘树脂膜的表里的敷金属夹层。敷金属夹层含有覆盖凹部的侧壁形成的第一金属膜、覆盖第一金属膜形成的金属氧化膜、和设于金属氧化膜上的第二金属膜。 | ||
搜索关键词: | 基体 部件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种配线基体部件,其特征在于,包括基体部件和构成埋入设于所述基体部件的凹部形成的配线的金属膜,所述金属膜包括覆盖所述凹部的侧壁形成的第一金属膜、覆盖所述第一金属膜形成的氧化金属膜、和设于所述氧化金属膜上的第二金属膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三洋电机株式会社,未经三洋电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510074673.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:高速多变长码并行解码器
- 下一篇:控制静态磁场的方法和磁共振成像装置