[发明专利]光敏聚合物及含有该聚合物的化学扩增的光刻胶组合物

摘要

本发明公开了用于采用短波长曝光光源形成高分辨率精细电路图案的光敏聚合物，及含有该聚合物的化学扩增的光刻胶组合物。所述光敏聚合物如以下式1所示，[式1]其中R₁为氢原子，R₂为氢原子（见图），R₃为氯原子、溴原子、羟基、氰基、叔丁氧基、CH₂NH₂、CONH₂、CH＝NH、CH(OH)NH₂或C(OH)＝NH基团，R₄为氢原子或甲基，1－x－y－z、x、y和z为构成所述光敏聚合物的每种重复单元的聚合度，x、y和z分别为0.01－0.8，且n为1或2。

主权项

1.式1所示的光敏聚合物，[式1]其中R₁为氢原子，R₂为氢原子、或R₃为氯原子、溴原子、羟基、氰基、叔丁氧基、CH₂NH₂、CONH₂、CH＝NH、CH(OH)NH₂或C(OH)＝NH基团，R₄为氢原子或甲基，1-x-y-z、x、y和z为构成所述光敏聚合物的每种重复单元的聚合度，x、y和z分别为0.01-0.8，且n为1或2。