[发明专利]一种高温结构陶瓷材料SiBONC的制备方法无效
申请号: | 200510075767.1 | 申请日: | 2004-04-14 |
公开(公告)号: | CN1721364A | 公开(公告)日: | 2006-01-18 |
发明(设计)人: | 温广武;李峰;张俊宝;宋亮 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C04B35/01 | 分类号: | C04B35/01;C04B35/622;C03B32/02 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 | 代理人: | 单军 |
地址: | 150001黑龙江*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 一种高温结构陶瓷材料SiBONC的制备方法,涉及一种陶瓷材料的制备工艺。本发明按照下述步骤进行制备:a.将四氯化硅与苯甲醛混合后在紫外灯照射下反应得到硅氧聚合物;b.向硅氧聚合物中加入烷基胺,得到Si-O-N有机聚合物;c.向Si-O-N有机聚合物中通入硼化物,得到Si-B-O-N-C有机聚合物;d.在管式气氛保护炉中,对Si-B-O-N-C有机聚合物进行裂解得到Si-B-O-N-C粉末;e.将所制备的Si-B-O-N-C粉末在真空/气氛热压中烧结得到致密的Si-B-O-N-C陶瓷。本发明制备的Si-B-O-N-C陶瓷具有工艺简单、制备成本低的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 高温 结构 陶瓷材料 sibonc 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种高温结构陶瓷材料SiBONC的制备方法,其特征在于它按照下述步骤进行制备:a、将四氯化硅与苯甲醛按照摩尔比为1∶(1~2)的比例混合,在紫外灯照射下反应7~30天,得到低分子量硅氧聚合物;b、向硅氧聚合物中加入烷基胺,其中烷基胺与硅氧聚合物的体积比为(1~5)∶1,控制反应温度在80~100℃的条件下进行烷基化反应8~12小时,得到热分解温度为200~600℃的Si-O-N有机聚合物;c、向Si-O-N有机聚合物中通入硼化物,在60~100℃的条件下反应10~15小时,得到Si-B-O-N-C有机聚合物,其中Si/B的摩尔比为(1~6)∶1;d、在管式气氛保护炉中,通入惰性气体,在400~1000℃、升温速率控制在0.1~10℃/min的条件下反应8~12小时,对Si-B-O-N-C有机聚合物进行裂解,得到Si-B-O-N-C粉末;e、将所制备的Si-B-O-N-C粉末在真空/气氛热压烧结炉中烧结,通入惰性气体,控制反应温度在1400~1900℃、压力为15~25Mpa的条件下保温1~4小时,烧结后得到致密的Si-B-O-N-C非晶与微晶陶瓷制品。
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