[发明专利]波纹缺陷检查方法及装置、以及光掩模的制造方法无效
申请号: | 200510075809.1 | 申请日: | 2005-05-30 |
公开(公告)号: | CN1721987A | 公开(公告)日: | 2006-01-18 |
发明(设计)人: | 吉田辉昭 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G01N21/00;H01L21/66;H01L21/027 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的课题是能够定性且定量地评价在被检查体的重复图样中产生的波纹缺陷,从而高精度地检测该波纹缺陷。作为解决手段,本发明的波纹缺陷检查装置(10)检查在具有多个单位图样规则排列而成的重复图样的光掩模(50)的所述重复图样中产生的波纹缺陷,其具有:受光器(13)、解析装置(14)及评价装置(15),受光器和解析装置检测在光掩模的重复图样中产生的波纹缺陷;评价装置将受光器和解析装置所检测出的光掩模的波纹缺陷的波纹缺陷检测数据以及与多个伪波纹缺陷分别相关的多个伪波纹缺陷检测数据进行比较,从而评价光掩模的波纹缺陷,其中对于所述的多个伪波纹缺陷,针对预定的重复图样中产生的每一种波纹缺陷,阶段地改变而分配了该波纹缺陷的强度。 | ||
搜索关键词: | 波纹 缺陷 检查 方法 装置 以及 光掩模 制造 | ||
【主权项】:
1.一种检查在被检查体上的重复图样中产生的波纹缺陷的方法,所述重复图样具有规则排列的多个单位图样,该方法包括以下步骤:检测在所述被检查体的所述重复图样中产生的波纹缺陷;以及,将该检测步骤中检测出的波纹缺陷检测数据与多个伪波纹缺陷检测数据进行比较,从而评价所述被检查体的波纹缺陷,其中,所述伪波纹缺陷检测数据分别与多个伪波纹缺陷相关,对于所述多个伪波纹缺陷,针对每一种波纹缺陷,阶段地改变而分配了预定的重复图样中产生的波纹缺陷的强度。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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