[发明专利]波纹缺陷检查方法及装置、以及光掩模的制造方法无效

专利信息
申请号: 200510075809.1 申请日: 2005-05-30
公开(公告)号: CN1721987A 公开(公告)日: 2006-01-18
发明(设计)人: 吉田辉昭 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;G01N21/00;H01L21/66;H01L21/027
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的课题是能够定性且定量地评价在被检查体的重复图样中产生的波纹缺陷,从而高精度地检测该波纹缺陷。作为解决手段,本发明的波纹缺陷检查装置(10)检查在具有多个单位图样规则排列而成的重复图样的光掩模(50)的所述重复图样中产生的波纹缺陷,其具有:受光器(13)、解析装置(14)及评价装置(15),受光器和解析装置检测在光掩模的重复图样中产生的波纹缺陷;评价装置将受光器和解析装置所检测出的光掩模的波纹缺陷的波纹缺陷检测数据以及与多个伪波纹缺陷分别相关的多个伪波纹缺陷检测数据进行比较,从而评价光掩模的波纹缺陷,其中对于所述的多个伪波纹缺陷,针对预定的重复图样中产生的每一种波纹缺陷,阶段地改变而分配了该波纹缺陷的强度。
搜索关键词: 波纹 缺陷 检查 方法 装置 以及 光掩模 制造
【主权项】:
1.一种检查在被检查体上的重复图样中产生的波纹缺陷的方法,所述重复图样具有规则排列的多个单位图样,该方法包括以下步骤:检测在所述被检查体的所述重复图样中产生的波纹缺陷;以及,将该检测步骤中检测出的波纹缺陷检测数据与多个伪波纹缺陷检测数据进行比较,从而评价所述被检查体的波纹缺陷,其中,所述伪波纹缺陷检测数据分别与多个伪波纹缺陷相关,对于所述多个伪波纹缺陷,针对每一种波纹缺陷,阶段地改变而分配了预定的重复图样中产生的波纹缺陷的强度。
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