[发明专利]波纹缺陷检查掩模、波纹缺陷检查装置及方法、以及光掩模的制造方法无效
| 申请号： | 200510075811.9 | 申请日： | 2005-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN1702429A | 公开（公告）日： | 2005-11-30 |
| 发明（设计）人： | 村井诚 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/30 | 分类号： | G01B11/30;G01M11/00;G02F1/13;G02F1/136 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题是能够高精度地检测在被检查体的重复图样上产生的波纹缺陷。以小片(65)为单位，在透明基板(62)上形成针对预定的重复图样(61)中产生的每一种波纹缺陷、分别具有阶段地改变而分配了该波纹缺陷的强度的多个伪波纹缺陷(66)的多个重复图样(61)。所述波纹缺陷的类型可分为：基于重复图样中的单位图样的线宽异常的CD波纹缺陷；基于重复图样中的单位图样的间隔异常的间隔波纹缺陷；基于重复图样中的单位图样的位置偏移的错位波纹缺陷；基于重复图样中的单位图样的形状缺陷的变形波纹缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 波纹 缺陷 检查 装置 方法 以及 光掩模 制造 | ||
【主权项】：
1.一种波纹缺陷检查掩模，包括：透明基板；以及在基板上形成的不透明膜，其中，由所述基板上的所述不透明膜形成多个重复图样，各个重复图样具有针对每一种波纹缺陷、阶段地改变而分配了预定的重复图样中产生的波纹缺陷的强度的多个伪波纹缺陷。
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