[发明专利]曝光装置、曝光方法以及曝光处理程序有效
| 申请号： | 200510075830.1 | 申请日： | 2005-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN1702557A | 公开（公告）日： | 2005-11-30 |
| 发明（设计）人： | 篠原雄一;田端秀敏 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置、曝光方法以及曝光处理程序，曝光装置包括：判断单元、存储单元以及曝光处理控制单元，判断单元根据利用摄影单元对分别形成于基板上和形成于具有在基板上形成的图案的掩模上的基板标记和掩模标记进行摄影后的上述两标记，判断上述基板是否可以曝光；存储单元将与判定为不可曝光的基板有关的信息，和被判定为不可曝光的区域的未曝光处理区域有关的信息作为错误信息进行存储；曝光处理控制装置在针对一连串的基板片数结束了上述调整处理及曝光处理后而再次投入存在上述未曝光处理区域的基板时，根据存储在存储单元中的错误信息，进行控制，使对未曝光处理区域实施调整处理及曝光处理。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 以及 处理 程序 | ||
【主权项】：
1.一种在基板的整个区域或为了实现曝光而预先划分的每个区域实施调整处理及曝光处理的曝光装置，其特征在于，包括：判断单元，其根据由摄影单元对分别形成于上述基板上以及形成于具有形成于基板的图案的掩模上的基板标记以及掩模标记进行摄影后的上述两标记，判断上述基板是否可曝光；存储单元，其将由该判断单元判定为不可曝光的基板的有关信息，以及作为该基板中被判定为不可曝光的区域的未曝光处理区域的有关信息，作为错误信息来进行存储；以及曝光处理控制装置，在针对一连串的基板片数结束了上述调整处理及曝光处理后再次投入存在上述未曝光处理区域的基板时，根据存储在上述存储单元中的错误信息，进行控制，使对上述未曝光处理区域实施上述调整处理及曝光处理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社ORC制作所，未经株式会社ORC制作所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510075830.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
